蝕刻控制面闆基礎知識

蝕(shí)刻的作用：線(xiàn)路成型。

蝕刻分爲幹(gàn)蝕刻與濕蝕刻，其區(qū)别如下：

幹蝕刻：利用不易被物理、化學作用破壞的物質光阻來阻擋(dǎng)不欲去除的部分，利用電漿的離子轟擊效應和化學反應去掉想去除的部分，從(cóng)而将所需要的線路圖形留在玻璃基闆上。幹蝕刻等向性蝕刻與異向性蝕刻同時存在。

濕蝕刻：利用化學藥液将需要蝕刻掉的物質蝕刻掉。濕蝕刻爲等向性蝕刻。濕蝕刻機台便宜，蝕刻速度快，但難以精x確(què)控制線寬和獲得極其精細的圖形並(bìng)且需要大量用水，污染大；幹蝕刻機台價格昂貴，蝕刻速度速度慢，但可以精x確(què)控制線寬能獲得極其精細的圖形，而且 不需要用水，花都區腐蝕設備面闆加工，污染小。